太阳能新产品——太阳能电池材料碱性蚀刻液:SUN-X系列
硅蚀刻液可令硅结晶型太阳能电池表面形成金字塔状细微纹理结构,用于降低反射率。一般作为蚀刻液的是IPA-碱混合液。不过,本公司此次开发了作为不含IPA 的太阳能电池硅片蚀刻液的“SUN-X 系列”。下面请由我为各位做“SUN-X 系列”的简单介绍。
☆ SUN-X系列基本原理
1) 与环境保护相对应
不使用IPA
SUN-X 成分仅含低挥发性化合物与水
<沸点>
SUN-X添加物
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200℃以上
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IPA
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82.4℃
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→减少大气污染
2) 高产量
比较使用SUN-X和碱/IPA做硅片蚀刻时的代表性条件。
<蚀刻液的使用条件>
蚀刻液
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SUN-Xs
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碱性/IPA
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使用时溶液的配制方法
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3倍稀释
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按设定量混合
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蚀刻方法
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浸泡
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浸泡
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温度(℃)
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80
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55~80
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时间(分钟/)
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20~30
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45~60
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组成的稳定性
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稳定
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不稳定
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● 使用IPA时,会发生挥发,需要时时添加,无法保持一定的浓度。
● SUN-X 系列仅可用水稀释3倍。
● 与之前方法相比,蚀刻的处理时间有望是之前的一半以下。
3)容易控制纹理形状、大小
● 一般而言,受光影响,硅片表面会吸收75%能量,反射25%能量。
被反射的光再被旁边的纹理表面吸收。
● 高低纹理相连接,反射的光就不能被吸收而会损失。
● 虽然纹路小的纹理可以很好地吸收光,但俯视图可看到还是有一部分光损失于纹理中。
● 因此,纹理的形状和大小对吸收效果的好坏(提高低反射率)有很大的影响。使用SUN-X,可形成均匀的纹理。
● 分开使用药液,可调整纹理大小。
● 使用SUN-X 600 得到的纹理尺寸约为6~8 μm、使用SUN-X 1200得到的纹理尺寸约为12 μm。
蚀刻液与能量转换效率
蚀刻液
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FF
|
Jsc
|
Voc
|
η
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SUN-X 600
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0.768
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35.97
|
0.640
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17.68
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SUN-X 1200
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0.770
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35.61
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0.636
|
17.43
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Alkali/IPA
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0.762
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34.79
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0.630
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16.70
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● 与之前使用IPA/碱性时相比,可得到具有低反射率、高转换率的晶片。
FUJIFILM Wako