labtch莱伯泰科超声波雾化器
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品牌:Labtech 莱伯泰科
生产厂家:labtch莱伯泰科
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CETAC微量雾化器 MCN MCN100型微量雾化器只需30μL/min的样品提升量就能达到常用雾化器1000μL/min的分析性能,因此,使用MCN 100只需很少的样品,非常适用于样品体积非常有限的应用领域。 详细>>
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CETAC超声波雾化器
U-5000AT+为ICP-AES改善了5-25倍的检出限,使许多必须要用石墨炉AAS的分析工作就可由快速、方便的ICP-AES来完成。美国EPA的200.15方法表明配备U-5000AT+的ICP-AES能为实验室节省成本、操作简单、改进分析时间。 详细>>
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CETAC微量雾化器 |
MCN 100型微量雾化器只需30μL/min的样品提升量就能达到常用雾化器1000μL/min的分析性能,因此,使用MCN 100只需很少的样品,非常适用于样品体积非常有限的应用领域。 |
U-5000AT+型超声波雾化器 | |||
U-5000AT+型超声波雾化器为ICP-AES 、ICP-MS 提供了更好的检出限(提高5-25倍),独有:
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U-5000AT+为ICP-AES改善了5-25倍的检出限,使许多必须要用石墨炉AAS的分析工作就可由快速、方便的ICP-AES来完成。美国EPA的200.15方法表明配备U-5000AT+的ICP-AES能为实验室节省成本、操作简单、改进分析时间。 |
U-6000AT+型超声波雾化器/膜去溶器具有非常有效去除无机、有机样品中溶剂的能力,从而减少了这些溶剂对ICP-AES、ICP-MS的干扰,进一步提高了分析物的检测能力。
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膜去溶技术
U-6000AT+是在U-5000AT+的基础上增加了第二级去溶(膜去溶),溶剂蒸汽通过加热的、多孔渗透的PTFE膜被“穿透气”带走而去除,因此具有更高的去除溶剂效率。
改善ICP-MS干扰元素的检出限
用ICP-AES、ICP-MS分析易挥发的有机样品
对于易挥发有机样品,超声波雾化器的冷却温度通常降至-10℃ 到-15℃,较低的温度减少了膜去溶的负载,雾化气流量 (0.6 L/min – 1.1 L/min) 、穿透气流量(1.5 L/min – 4.0 L/min) 可调以获得最佳的性能。 |
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混合气体附件
选购的混合气体附件BGX-100配备精密的质子流量控制器,为在U-6000AT+中的样品气溶胶加氧。加入的氧可以防止ICP炬管和ICP-MS样品接口上结碳,该附件建议用于诸如甲苯、己烷等无氧溶剂的分析。 |
Aridus II膜去溶雾化系统 |
Aridus II膜去溶雾化系统是专为各种ICP-MS而研制开发,采用 CETAC公司最新的第二代膜去溶技术,具有如下特性:
Aridus II膜去溶雾化系统采用的低流量、Aspire微量雾化器,只需1mL的样品就能分析所有的元素。同时Aridus II进样系统全部采用PFA惰性材料,可应用于含HF酸的样品。独特的废液反抽技术进一步提高了稳定性。 |
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Aridus II的工作原理:
样品经雾化器雾化成气溶胶后进入120℃的雾化室,样品气溶胶保持在蒸汽状态。从雾化室出来的样品气溶胶进入加热的“隔膜去溶”装置,利用“膜渗透”技术,分离样品气溶胶中的溶剂,利用一股反向的氩“穿透气”带走从膜渗透出来的溶剂蒸汽。从而使进入ICP的样品气几乎不存在溶剂部分,大大提高了分析的灵敏度、减少溶剂所带来的氧化物、氢化物干扰和溶剂对ICP的影响。 |
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Aridus膜去溶能有效去除样品溶剂蒸汽,显著地减少诸如来自水中的氯化物、氢化物的干扰。(下图为)标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce比率的比较图,该CeO/Ce比率从3%减少为0.05%。 | ||||||||||||||||||||||||
显著减小ICP-MS的干扰: Aridus II膜去溶雾化系统能有效去除样品溶剂蒸汽,显著地减少诸如来自水中的氧化物、氢化物的干扰,右图比较了标准气动雾化器与Aridus系统的CeO/Ce 比率,该CeO/Ce比率从3% 减少为0.03%。 其他水基的干扰ArH +(39)、CO2+(44)、ArO+(56)有明显的减少,从而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的检出限得到明显改善。 |
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配备Aridus II的ICP-MS检出限:(在非冷焰的条件下,ELAN6000型ICP-MS)
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卓越的信号稳定性: | ||||||||||||||||||||||||
Aridus II的7小时信号稳定性:RSD<1%(在100%的甲醇溶液中加1mg/L的标准) |
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