labtch莱伯泰科激光烧蚀系统193nm
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品牌:Labtech 莱伯泰科
生产厂家:labtch莱伯泰科莱伯泰科
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Analyte G2 激光系统,包含一个无与伦比的双体积样品池HELEX,具有一个独一无二的普适性内池设计。 |
终极的193nm激光烧蚀系统 |
固态激光的超短脉冲宽度,气态准分子193nm波长 和 均质化高质量平顶光束 构成了卓越的 Analyte G2激光烧蚀系统。 操控性能极佳束传输系统和光学成像系统相比同类型激光系统具有独特的优点。在无须重新调整焦平面的前提下,激光束景深可以被拉长,以便获得持久稳定深度剥蚀效果和优良的剥蚀图像。
视频采集系统 (<2um分辨率)
均质化平顶激光束 激光系统 193nm气态准分子激光,1-300Hz频率可调,<4ns脉冲宽度,<2% RSD稳定性,即触式非接触自动充气电磁阀。 同步动态剥蚀 Analyte G2 是第一台和唯一一台系统能够具有同步动态剥蚀功能,在提供精确控制的同时,能够进行线矩阵或点矩阵的深度剥蚀扫描。激光发射能够精确同步于XY平台移动,只有具有这样精确的控制技术,才能在表面分析和深度剥蚀的时候,进行线矩阵和点矩阵边对边的无重叠的精确剥蚀。 三维平台控制 HELEX 双体积样品池 HelEx 双体积样品池,独一无二的性能,100平方毫米取样面积与吹扫时间高达2.5个数量级/秒 的灵敏度、精确度和准确度。 拥有四个不同薄厚的样品支架,用户也可以自定义样品支架。 软件系统NEW SOFTWARE 新颖直观,基于Windows 的软件系统,具有所有 LA 需要的功能,即使是光路吹扫气也通过电磁阀和质量流量控制器控制。双向触发,可以允许无限剥蚀点线面的同时采集数据。软件终身免费升级。 |