persee普析XD2/3系列衍射仪
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品牌:Persee普析
生产厂家:persee普析
需求数量:
persee普析XD2/3系列衍射仪
X射线衍射仪是对晶体物质和材料的组成和原子级结构进行研究和鉴定的分析仪器。
北京普析通用仪器有限责任公司生产的XD2/3型X射线粉末衍射仪具有精度高、准确度高、机械稳定性好、经久耐用、易升级、操作简便和智能化的特点,能灵活地适应各种行业的测试分析与研究。是目前国内生产制造先进的θ-θ模式X射线粉末衍射仪最成熟的厂家。XD2/3系列衍射仪被授予教育部科技成果鉴定推荐产品,国家质量技术监督局认证产品,2007年BCEIA金奖等荣誉。
X射线多晶衍射技术主要应用于多晶物质。世界上的任何物体均是由某些材料构成的,而固体材料中的多数是属多晶体,非晶体和液体的某些问题,也可用X射线多晶体衍射设备做研究,所以,X射线多晶体衍射应用的领域是很广泛的,涉及到各行各业。
环境保护 |
环境中石棉的定性和定量分析,粉尘和尘埃的定性分析,粉煤灰、炉渣等经各种处理后的结构分析。 |
石油化工 |
中油化工中未知物相分析,催化研究中催化剂研制及应用过程中各阶段物相组成变化,活性组分变化状况分析等; X、Y、ZSM、SAPO等各种分子筛的硅铝比,结晶度,晶胞参数,晶粒大小测定,各类样品的结构参数测定。 |
钢铁冶金 |
钢铁 钢铁的定性分析、残留奥氏体分析、残余应力分析、氧化膜和氮化层的分析、各种电镀和织构的评价。 铸铁 铸铁中的析出物和铸造用添加剂的定性分析等。 表面处理钢 表面处理部位的特性评价、质量管理和残留应力分析。 |
电池材料 |
电池样品的定性分析,半高宽强度比计算。例如球镍颗粒的结构特性分析。 |
有色金属 |
铜锌铝及其合金和氧化物、氮化物的定性分析,表面处理部位的特性评价、取向分析、应力分析。 |
医药化妆品 |
医药品 药品原材料的定性分析、杂质的鉴别、晶体的多形态分析和结晶度的测定、通过晶体粒径的测定进行药品生产工艺中的质量管理等,如蒙脱石散的测定。 化妆品 化妆品中有害成分的分析,如石棉的测定。 |
建筑材料 |
陶器?瓷器?水泥?玻璃 原材料的定性分析,最终产品的评价。如熟料和水泥的定性分析、定量分析(纯石灰等)。原材料的定性分析、在玻璃表面上形成的薄膜层的定性分析、取向度分析等。 耐火砖 如,硅砖物相分析,其中游离石英的定性定量测定。 |
机械制造 |
机械零件表面定性分析、奥氏体的分析、残留应力的分析。尾气处理的各种催化剂的定性分析、工具钢的定性分析、加工整形零件的表面状态分析、奥氏体层的分析、表面电镀部位的定性分析、残留应力分析等。 |
煤炭天然气 |
工业规模的定性分析、碳材料的评价、石油精练工艺中催化剂材料的评价。 |
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主要特点 |
高精度多功能立式测角仪 装配电机采用20微细分驱动技术,使最小步进角度达到0.0005°、2θ测角重复性优于0.0006°。根据分析要求,可以选择分析常规粉末样品、块状样品的θ-2θ测角仪,也可以选择分析从常规粉末样品、块状样品到超大不规则样品、粘稠液体样品的θ-θ测角仪。
优秀的低角度扫描功能 XD2/3型衍射仪具有超强的低角度扫描功能,常规的低角度扫描角度可从0.5°开始,适用于对薄膜或分子筛样品的直接测定。
软件齐全 衍射仪配套的控制获取软件、分析软件齐全,具有强大的可操作、分析功能。
性能稳定 用户长期使用(8个月),α-石英101衍射角标准偏差优于0.0015°。
重视安全结构设计 机柜设计与测角仪光闸采用了连锁结构,未到指定位置X射线无法开启,严防X射线泄露。
仪器的附件组成 XD-2/3型多晶X射线粉末衍射仪采用立式测角仪结构,使其具备强大的功能扩展功能。可以提供的主要附件包括:石墨弯晶单色器、平行光薄膜附件、旋转样品台、多功能测量附件、织构附件、纤维附件、高低温附件和压样器(选配附件) |
技术参数 |
主机构成 |
项目 |
XD-2 |
XD-3 |
X光管 |
种类 |
Cu靶,NF型 |
焦斑 |
1.0x10mm2 |
最大输出 |
2kW |
X射线发生器 |
最大输出 |
3 kW |
X光管电压 |
15~60kV |
管电压步宽 |
1kV |
X光管电流 |
6~50mA |
管电流步宽 |
1mA |
管电压、管电流稳定度 |
≤0.01%(电源电压浮动10%) |
报警装置 |
kV过低、kV过高、mA过载、水流量、温度 |
射线功率保护 |
0.35、0.7、1.0、1.5、2.0、2.7kW六档 |
测角仪 |
测角仪扫描半径 |
180mm |
测样形式 |
样品水平运动 |
样品水平静止 |
扫描方式 |
θs-2θd联动或θs、2θd单动 |
θs -θd联动或θs、θd单动 |
扫描角度范围 |
-180°~180°(θs) -30°~160°(2θd) |
-30°~80° (θs) -30°~160°(θd) |
工作方式 |
连续扫描、定时步进扫描、定数步进扫描 |
连续扫描速度 |
0.125°~120°/min |
角度重复性 |
0.0006° |
测量精度 |
0.001° |
最小步进角度 |
0.00025° |
发散狭缝(DS) |
0.15°、0.5°、1°、2° |
防散射狭缝(SS) |
0.5°、1°、2° |
接收狭缝(RS) |
0.1,0.15,0.30,0.45,0.6,1,2mm |
调零专用狭缝 |
0.02mm |
检测·计数器 |
检测器类型 |
闪烁晶体计数器 |
晶体类型 |
NaI |
检测器噪音 |
≤1cps |
脉冲幅度分析器(PHA) |
输出高压0~1000V,稳定性≤0.01%(8h) |
机柜 |
机柜尺寸(mm) |
1200(长)×800(宽)×1850(高) |
整机重量(kg) |
500 |
观察窗 |
600(高)×400(宽)×10(厚)铅玻璃 |
X射线泄漏量 |
≤0.1μSv/h(未扣除天然本低) |
安全措施 |
门连锁保护(门到指定位置,光闸才打开,产生X射线) |
滤波器·单色器 |
Ni滤片(对应Cu靶) |
消除连续X射线、荧光X射线及约98%的Kβ特征X射线 |
石墨晶体单色器 |
反射效率η≥28%;消除全部连续X射线、荧光X射线及Kβ特征X射线; |
整机综合稳定度 |
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≤0.3% |
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